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Modedesigner-Konkurrenz: Schattenbild 07Nolcha Art- und Weisewoche begrüßt internationale Modedesigner, um zu einer Höchstzeit für die Art und Weiseindustrie in New York City zur Schau zu stellen und einen Bargeldpreis von $5.000, eine Werbekampagnen- und Ansammlungsplazierung in NYC u. in den Miami-Butiken zu gewinnen.
Das Ereignis hat den Schutzträger des Art- und Weisejournals: New York u. London, ECU-Lebensstil-Zeitschrift, sechs Grad, Lageneve-Nordzeitschrift und IMT Arten.
„Schattenbild“ stützt das auftauchende Talent in der Welt der globalen Art und Weise.
Das Ziel dieses Ereignisses ist, Industrietüren für Entwerfer zu öffnen und sie auf einer Mittelplattform sowie zu setzen bringen Sie ihre Ansammlungen in den Handel.
10 Entwerfer werden von einem Ausschuss der hochwertigen Fachleute in der Art und Weiseindustrie gewählt.
Die erfolgreichen Anwärter stellen ihre spätesten Ansammlungen auf der Nolcha Laufbahn am 8. September 2007 zu den Kunden, zu den Mitteln und zu den Art und Weisegeliebten über von der Kugel zur Schau.
Unterordnungstichtag ist 31. Mai 2007.
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April 11, 2007 | Viewed 39,050 time(s)
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